隨著半導(dǎo)體制程技術(shù)飛速發(fā)展，芯片線寬已經(jīng)進(jìn)入納米級，對潔凈室內(nèi)的環(huán)境要求也越來越高。比細(xì)顆粒物污染物尺寸更小的氣態(tài)分子污染物(AMC)，能深入到半導(dǎo)體器件的微觀結(jié)構(gòu)中，沉積在晶圓表面，影響器件的性能和良率，對半導(dǎo)體制程產(chǎn)生顯著影響。已有研究表明：為最大程度減少AMC對工藝良率的影響，潔凈室內(nèi)的重點(diǎn)AMC濃度需要控制在萬億分之一（pptv）的水平。
半導(dǎo)體生產(chǎn)潔凈室內(nèi)的氣態(tài)分子污染物AMC 主要來源于外部環(huán)境空氣和內(nèi)部工藝過程等。內(nèi)部環(huán)境產(chǎn)生的AMC可能來源于制造過程中產(chǎn)生、使用的化學(xué)品的釋放（如清洗劑等）、潔凈室內(nèi)建筑材料等的釋放、人員活動等。外部環(huán)境空氣通過空氣凈化裝置和過濾系統(tǒng)進(jìn)入潔凈室影響潔凈室內(nèi)空氣環(huán)境。通過對潔凈室內(nèi)外氣體的監(jiān)測，可以判斷AMC來源于外部環(huán)境還是內(nèi)部源。甚至可以通過對不同生產(chǎn)工藝過程中AMC的監(jiān)測，追蹤AMC的影響。潔凈室內(nèi)外AMC的監(jiān)測對于半導(dǎo)體中AMC的控制意義重大。
Nutech罐采樣-大氣預(yù)濃縮系統(tǒng)檢測半導(dǎo)體行業(yè)潔凈室內(nèi)外的揮發(fā)性有機(jī)物
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